种植体全自动腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE设备名称种植体全自动腐蚀清洗设备适用领域医疗种植体系统设备用途种植体化学腐蚀和清洗的设备基本介绍主要功能：通过对清洗物腐蚀、喷砂→清洗→酸腐蚀→清洗等方式进行处理，从而达到一个用户要求的效果设备形式：室内放置型操作形式：自动设备制造商华林科纳（江苏）半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 0513-87733829；18051335986 在种植体制造过程中,完成...
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system华林科纳（江苏）CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗（包括光刻板清洗）刻蚀 去胶 金属剥离等；可处理晶圆尺寸2'-12'；可处理晶圆材料：硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等；主要应用领域：集成电路 声表面波器件 微波毫米波器件 MEMS 先进封装等 设 备 名 称CSE-单片清洗机...
全自动制绒清洗机设备--CSE华林科纳（江苏）CSE密切跟踪太阳能光伏行业发展，致力于“设备+工艺”的研发模式，现生产的单多晶制绒设备已经形成了良好的客户基础和市场影响。生产工艺流程为：预清洗→制绒→扩散→刻蚀→去PSG→PECVD→印刷→烧结太阳能电池片湿法设备主要技术特点：1.独特的双槽制绒工艺槽设计；2.分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本；3.多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制；4.机械传动特殊设计及人性化安全保证；5.适应性强的工艺过程控制。产品描述1...
设备名称：晶棒腐蚀机---CSE产品描述： ●此设备自动化程度高,腐蚀清洗装置主要由水平通过式腐蚀清洗主体(槽体部分/管路部分等),移动机械传送装置,CDS系统，抽风系统,电控及操作台等部分组成; ●进口优质透明PVC活动门（对开/推拉式），保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准，以保证设备操作人员...
硅片湿法清洗技术与设备---华林科纳CSE硅片制造过程中，在进行下一步工艺前要获得 一个洁净的表面，以保证后道工艺能再一个完全洁 净的表面上进行，这就需要对硅片进行清洗。清洗是硅片制造过程中重复次数最多的工艺。目前，在 清洗工艺中使用最多的就是湿法清洗技术，华林科纳半导体设备公司的硅片湿法腐蚀清洗机在半导体行业得到了很多客户的认可.1 硅片湿法清洗的种类1.1 刷洗刷洗是去除硅片表面颗粒的一种直接而有效的方法，该清洗技术一般用在切割或抛光后的硅片清洗上，可高效地清除...
太阳能硅片制绒腐蚀清洗机-CSE在光伏发电领域，由于多晶硅电池片成本较低，其 市 场 占有率已跃居首位，但相对于单晶硅电池片而言仍存在着反 射率较高、电池效率不足的缺陷。为缩小多晶硅太阳能电池 片与单晶硅太阳能电池片之间的差距，采用织构化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一条行之有效的途径。目前，多晶硅表面织构化的方法主要有机械刻槽、激光刻槽、反应离子体蚀刻、酸腐蚀制绒等，其中各 向同性酸腐制绒技术的工艺简单，可以较容易地整合到多晶 硅太阳能电池的生产工序中，同时成 本...
刻蚀方法分为：干法刻蚀和湿法刻蚀，干法刻蚀是以等离子体进行薄膜刻蚀的技术，一般是借助等离子体中产生的粒子轰击刻蚀区，它是各向异性的刻蚀技术，即在被刻蚀的区域内，各个方向上的刻蚀速度不同，通常Si3N4、多晶硅、金属以及合金材料采用干法刻蚀技术；湿法刻蚀是将被刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术，这是各向同性的刻蚀方法，利用化学反应过程去除待刻蚀区域的薄膜材料，通常SiO2采用湿法刻蚀技术，有时金属铝也采用湿法刻蚀技术。下面分别介绍各种薄膜的腐蚀方法流程：二氧化硅腐蚀：在二氧化...
SPM腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位，多年来与众多的集成电路生产企业密切合作，研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备。其中SPM自动清洗系统设备主要用于LED芯片制造过程中硅片表面有机颗粒和部分金属颗粒污染的自动清洗工艺。设 备 名 称华林科纳（江苏）CSE-SPM腐蚀酸洗机适 用 领 域LED外延及芯片制造设 ...
RCA湿法腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位，多年来与众多的集成电路生产企业密切合作，研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设 备 名 称华林科纳（江苏）CSE-RCA湿法腐蚀清洗机使 用 对 象硅晶片2-12inch适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备主体构造特点1...