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产品名称:

Wet Bench CSE

上市日期: 2017-12-08

 WET PROCESSING-MANUAL WET BENCHES

Wet Processing Manual Wet Bench Stations for Clean Room Applications

CSE’s wet processing manual wet benches are available in a wide variety of configurations. Standard construction will support both acid and solvent applications. Our standard wet benches give you all of the process and safety features as our fully automated or semi-automatedwet bencheswithout the extra cost for robotics. Our electrical and mechanical engineers prepare sign off drawings for each wet bench order. Our 30 plus years of continues business operation gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support.

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Benefits of Wet Processing Manual Benches:

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§ High end manual equipment at competitive pricing

§ Meets or exceeds all current safety standards

§ Low cost of ownership

§ Wet bench designed to meet any of you process requirements

§ We welcome custom designs and processes

§ Wet processing equipment designed for future expansion

Standard Features:

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§ White polypropylene construction for acid and base process

§ Stainless steel construction for solvent applications

§ Available in any size and length to meet you requirement

§ All stations wired per NFPA 70 & 79

§ Emergency Power Off (EPO) with mushroom button and all safety interlocks

§ All process tanks with 1” lip exhaust

§ N2 head case purge

§ Photohelic with interlock to EPO

§ PVC safety shields

§ Teflon N2 gun and DI water hand spray

§ Continuous flow DI water manifold

§ Casters and leg levelers

§ One year warranty on all parts

§ 2 copies paper manual and one complete set of paperless

Options:

§ FM4910 (PVC-C) material of construction

§ Rear access design

§ Third party certification for NFPA 70 & 70

§ Semi standard, CE mark and NEC certification available

§ Seismic zone 4 structural certification

§ Fan Filter Units (HEPA)

§ Lift station designed into bench

§ Dedicated drains to carboy with DOT containment

§ Overhead deck lighting

§ Light tower (3-color)

§ Counter balance safety shields

§ Extended warranty available

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§ KOH Etching

§ Developing

§ SC1 & SC2 (RCA Clean)

§ Megasonic Cleaning

§ BOE (Buffered Oxide Etching)

§ Plating

www.hlkncse.com ,400-8768-096;18913575037

 Wet bench

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2016 - 03 - 07
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刻蚀方法分为:干法刻蚀和湿法刻蚀,干法刻蚀是以等离子体进行薄膜刻蚀的技术,一般是借助等离子体中产生的粒子轰击刻蚀区,它是各向异性的刻蚀技术,即在被刻蚀的区域内,各个方向上的刻蚀速度不同,通常Si3N4、多晶硅、金属以及合金材料采用干法刻蚀技术;湿法刻蚀是将被刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术,这是各向同性的刻蚀方法,利用化学反应过程去除待刻蚀区域的薄膜材料,通常SiO2采用湿法刻蚀技术,有时金属铝也采用湿法刻蚀技术。下面分别介绍各种薄膜的腐蚀方法流程:二氧化硅腐蚀:在二氧化硅硅片腐蚀机中进行,腐蚀液是由HF、NH4F、与H2O按一定比例配成的缓冲溶液。腐蚀温度一定时,腐蚀速率取决于腐蚀液的配比和SiO2掺杂情况。掺磷浓度越高,腐蚀越快,掺硼则相反。SiO2腐蚀速率对温度最敏感,温度越高,腐蚀越快。具体步骤为:1、将装有待腐蚀硅片的片架放入浸润剂(FUJI FILM DRIWEL)中浸泡1...
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