3月20日，第二届华林科纳泛半导体湿法培训会在华林科纳（江苏）半导体设备有限公司成功举办。这届培训会以“以声共汇平台，以友共筑数据”的主题面向芯片设计、晶圆制造、封装测试、材料和设备以及下游应用产业链多个群体。培训会进一步聚焦泛半导体湿法行业发展新动态、新趋势、新技术及创新项目，深入探讨湿法工艺的发展模式和行业发展趋势。

中环科技、协鑫集团、三安光电、有研硅股、天科合达、中电科集团研究所、中科院半导体所、清华大学、浙江大学、中科大等多家单位代表出席培训会，国内近50家半导体知名企业与大学研究所80余人参加培训会。

本次培训会面向湿制程设备实际使用者，主要由湿法行业领导者华林科纳牵头，汇集了湿法工艺&设备、湿制程的化学品知识、水处理知识、超声/兆声清洗知识、专业计量仪器应用知识等产业链各环节的优秀课程。每个课程的演讲者都是来自国际一流或者国内顶尖的供应链，无一不代表着当下产业内的领先水平。

课程首先由华林科纳项目总监高艳带来的《湿法设备与工艺解析》，深入浅出的原理介绍了湿法清洗在半导体领域的影响。制程工艺每推进一代，清洗步骤增加约15%。半导体器件集成度和芯片复杂度的提高，使得芯片对杂质的敏感度大大提升。在工艺节点不断推进的前提下，为了降低杂质影响、提高良率，需要继续增加清洗步骤。

而受当前国际疫情形势影响，且国内半导体行业在国家的大力发展下，本土清洗设备市场国有化率约为20%，国产化有望进一步加快。与国外日本公司占据清洗机行业主导地位相比，以华林科纳为代表的国产湿法设备制造商在槽式领域已具有一定竞争力。

在分析了湿法设备的市场背景后，高总监从通用的RCA清洗工艺知识的展开，介绍了各种SC1、SC2、HF/BOE等Chemical在清洗过程中起到的作用及效果分析，鞭辟入里地从专业的角度对湿法清洗设备关于Clean、Etch、Photoresist Removal & Development Process的相关工艺的影响与效果进行了阐述与分析。

另外，华林科纳特约各领域专业讲师也分别从湿法相关的纯水机知识、湿法过程中使用的化学品、超声/兆声清洗工艺原理以及在湿法设备中的应用、精密仪器在湿法设备中的应用、废液废气的处理方案等专业领域对进行了分享，全程会议干货满满，收获颇丰。

结合理论授课，在华林科纳实训厅，各供应链专业制造商也提供实物给学员们能够近距离的观测设备与零件。现场，专业工程师对全自动酸腐蚀机、化学品恒温机、Marangoni干燥机、智能配液机等各种核心装备进行了原理、使用注意点、维护保养知识的讲解，打造了一个高水平、高开放度和高自由度的培训交流平台。

由华林科纳打造的千级湿法实验室，用于提供湿法工艺实验验证和核心功能模块演示服务。在此次培训会首次对外开放，也迎来了首批使用者，来自清华大学的张老师在湿法实验室进行了背面腐蚀的实验。

基于首届泛半导体湿法培训会的基础，本届培训会，主办方华林科纳进一步提升专业化、新型化、高端化，提升大会的品牌形象和影响力，确立了“高标准、专业性”的要求，促进了行业细分领域的成长，弥补供需双方的痛点和盲区，充分展示了技术聚集的优势，增强了企业间的互助与合作。

华林科纳泛半导体湿法培训会议将每半年举办一次，进行常态化举办。作为国内最早期进入湿法设备领域的品牌，主办方华林科纳即将完成由设备制造商向技术型服务商转变的过程，争取为中国半导体行业的人才培养、技术演进贡献出自己的力量。