一．简介

  兆声清洗是运用在半导体清洗设备中的一种比较新颖清洗技术，它不仅保存了超声波清洗的优点，而且克服了它的不足，它是由高频（900khz 可根据实际使用来定）振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时，由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，最大瞬时速度可达到30cm/s。因此，形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。

二．作用

兆声波清洗可去掉硅片表面上小于0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。目前兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法。

三．结构

兆声波清洗的结构主要可以分为放着清洗晶片的石英槽体、保证在清洗过程温度稳定的溢流外槽、产生兆声波的兆声振盒及其发生器、保证清洗槽体内温度的在线加热和根据设备使用中是否需要的自动供酸系统，是否有其他结构可根据实际使用来进行添加。

四．使用原理

  兆声波清洗机是用在硅片清洗中的一种清洗技术，使用时首先要把清洗槽体和在线加热内注入适当的清洗的液体，注入的的方法可根据厂方的注液方式分为手动上液和自动上液，上液完成之后打开在线加热，使温度达到使用温度，温度达到时要打开下部溢流槽的溢流阀门，溢流阀门的流量可使用溢流上水管路上面的手阀来调节流量的大小，在溢流槽达到使用的液位要求时，就可以打开兆声开关，然后把要清洗的硅片放入石英槽体内，清洗的时间根据不同的硅片和不同的工艺来决定，以上的预清洗过程正常都可以使用自动程序实现完成。

本文关键词：兆声清洗机; 兆声清洗; 半导体清洗设备; 溢流槽 石英槽 

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