本文主要介绍在镀膜以前，快速清洗各种形状和尺寸的单个基片的方法。
对表面的清洗基本上可以分成清洗和干燥两个阶段：清洗的目的是清除零件表面严重污染，如水汽、油污、微粒等，进一步清除零件表面残留物；最后是对零件进行干燥。在清洗和干燥阶段，需尽量避免对零件造成重新污染。
各种清洗方法介绍
基片的清洁度对薄膜性能有很大影响。在镀膜以前，最理想的情况是使用刚抛光完的基片，否则基片表面会变质。特别是当基片经受了不正确处理和贮存后，其情况变得更加严重。但是，即使是对刚抛光完的基片来说，有时也会由于存在氧化筛抛光粉的污染而使这种基片在镀膜以后在某些地方出现较大的散射。只有在抛光以后，立即清洗基片表面，并且在镀膜以前再次清洗才能消除这种影响。
通常，只对基片重要表面进行抛光，共余表面，如基片边绿部份保持研磨后状态。清洗基片表面时，只需清洗基片抛光面就行了。清洗粗糙面的污染往往比较困难，有时会因为想清洗这些表面而影响到抛光面的清洁。
1.清洗
清洗方法的适用性取决于基片材料和基片原始表面状态。通常是用一种阴离子介面活性剂的稀释溶液来清洗基片表面。清洗时，用浸有这种溶液的脱脂棉轻轻擦洗基片表面。在清洗后，再将基片放在含有这种洗涤剂的稀释溶液的超声波槽里继续进行清洗。1976年Mathewson介绍了先用全氯乙稀蒸汽脱脂，然后用碱性洗涤剂超声波清洗的方法。
上述预清洗方法，虽然能为基片进一步清洗打下良好的基础。但是处理不当也会对基片造成损伤。然而也有人发现，只要用超声波清洗的时间不太长，对基片表面的损伤是可以忽略不计的。
2.干燥
在清洗结束后，接下来对基片进行干燥，在干燥过程中，需特别注意不要再污染基片。关于干燥方法，有人主张将基片从纯水中取出后直接进行干燥，为了得到清洁、干燥的表面，人们还常用各种溶剂，如异丙醇、乙醇、丙酮和三氯乙烯等作蒸汽脱脂清洗。在光学薄膜工业中，常选用异丙醇。在基片清洗干净以后，很难保证它们不再受灰尘污染。
文中提到的两种清洗阶段，华林科纳所做的湿法设备均能满足以上清洗要求，并且有丰富的经验和完善的方案措施，在解决清洗问题的同时，还能给顾客达到事半功倍的效果。