欢迎访问华林科纳(江苏)半导体设备技术有限公司官网
手机网站
始于90年代末

湿法制程整体解决方案提供商

--- 全国服务热线 --- 0513-87733829
 
 
 
新闻资讯 新闻中心
400-8798-096
联系电话
联系我们
扫一扫
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
推荐产品 / 产品中心
发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。华林科纳(江苏)CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称华林科纳(江苏)CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商华林科纳(江苏)半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18915583058更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8798-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 华林科纳(江苏)CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE华林科纳(江苏)半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-华林科纳(江苏)CSEChemical Dispense System System 华林科纳(江苏)半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称华林科纳(江苏)CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system华林科纳(江苏)CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注华林科纳(江苏)半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-华林科纳(江苏)CSEChemical Dispense System System 华林科纳(江苏)半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称华林科纳(江苏)CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化...
新闻中心 新闻资讯

玻璃的超声波精密清洗及其评价方法

时间: 2021-11-19
点击次数: 64

玻璃的超声波精密清洗及其评价方法

扫码添加微信,获取更多半导体相关资料

引言

      近年来,应用超声波的精密清洗法被用于光学透镜、液晶用玻璃板、半导体晶圆等的清洗。 本文概述了超声波精密清洗法和玻璃表面的清洗度评价方法。

 

超声波的发生法

      超声波也可以通过流体空洞内的共振和机械快门引起的流体断续(警报器)得到,现在主要使用的产生方法是,如图1所示,首先通过振荡器产生电振动能,将其加入到被称为振动子的电声转换器中,转换成机械振动能,向与该振动子接触的音响传递介质中辐射超声波的方法。

 

超音波精密洗浄方法

      作为光学透镜、玻璃板、液晶用玻璃板等的清洗,以及半导体晶圆、玻璃掩膜等的清洗,近年来在精密清洗领域使用了应用超声波的多槽式清洗系统。作为编入清洗系统的装置,有手动进给式和自动进给方式。清洗装置的系统因其被清洗物的清洗目的不同而不同,作为光学透镜、玻璃板等多槽式清洗工序,表2~4工序使用最多。 另外,外观如照片1所示。

 玻璃的超声波精密清洗及其评价方法

2 多槽式洗浄工程

玻璃的超声波精密清洗及其评价方法 

4 多槽式洗浄工程

      清洗工序的主要液体组成和液体管理如下所示:

      有机溶剂。作为溶解力优异的有机溶剂,一般使用三氯乙烯、全氯乙烯、1.1.1-三氯乙烷、二氯甲烷、氟利昂等。虽然根据污染的种类多少有些不同,但是有机溶剂的化学稳定性好,溶解力高是很重要的,因此三氯乙烯被使用最多。 作为有机溶剂的液体管理,比重管理是有效的。 另外,根据有机溶剂的种类不同,由于添加了稳定剂,一旦混入水分,就会慢慢发生水解,生成酸,因此需要通过pH值管理,定期更换液体。

水溶性洗涤剂。作为水溶性洗涤剂,使用合成洗涤剂。 该装置由阴离子或非离子表面活性剂和助剂组成,助剂具有增加表面活性剂的活性力的辅助作用,并且对于去除无机物质是有效的。 另外,根据目的,还使用了有机溶剂+表面活性剂的方法。 水溶性洗涤剂由于油脂类的混入,去污力会降低,所以一般需要混入2~5%左右进行更换。

      干燥。在用水溶性洗涤剂洗涤后,用市水、纯水等进行充分的漂洗过程,以获得异氟丙醇。在利用I.P.A等进行水置换后,作为干燥工序,多采用利用氟利昂蒸汽的干燥方式(表2的方式)。在这种情况下,异丙醇的含水量增加,会降低水-醇的置换效率,导致洗涤后出现色斑,因此有必要通过比重管理进行监测。另外,由于将I.P.A带入氟利昂蒸汽槽,因此在氟利昂液的再循环中安装水洗式水分离器。 另外,作为蒸汽清洗方式,利用I.P.A蒸汽,取得与前槽的温度差,提高蒸汽清洗效果(表3的方式)。 像这样,作为水置换―干燥,有I.P.A、氟利昂的方式,但考虑到I.P.A有引燃的危险性,因此必须对装置使用的电装品实施防爆对策,最近,氟利昂脱水方式、热风干燥方式(表4)也被广泛使用。

 

玻璃板表面清洁度的评价方法

      为了判定玻璃板表面清洗后的清洁度,有很多的评价方法,有必要根据作为目的的清洁度、作为问题的污染物的种类、评价的时机(时期、气氛条件)等,选择最合适的方法。 本文记述了作为评价方法最普遍的方法的目测评价方法和接触角评价方法。

      目视评估方法:这是用肉眼直接观察污染状态的方法,放大显微镜也可作为辅助使用。 在判定时,需要若干经验,但一般来说,缺乏定量化,根据污染的种类和表面状态,很难进行正确的判定。也有使用光学显微镜对光学研磨过的玻璃等洗净前后的粒子数进行计数,比较清洁度的方法。还有用布、滤纸比较判断污染表面、洗涤前后的方法,以及粘贴透明胶等比较判断洗涤前后污染的附着状态的方法。通过在玻璃板的表面上吹气并从粘附到表面的微小水滴的图案确定清洁度的方法,可以通过视觉观察容易且快速地确定清洁度。浸泡在纯净的水中,沥干水分,观察表面水的附着状态。 在清洁的表面上,水膜均匀,如果有污垢附着,就不会形成水膜,因为有排斥水的部分,所以很容易判断。用染料染色,吸附碘,使其着色,通过目视观察着色变化进行判断。 特别是对于油性污垢等是有用的。

 

接触角法:

      目视评价方法是用肉眼观察玻璃表面的润湿性来评价清洁度,但由于缺乏定量性,作为用数值表现润湿性的方法,使用接触角测量法。据说接触角越小,润湿张力越大,润湿性越好。 根据润湿性进行评价时,一般使用纯水作为液体,固体表面上的水滴接触角较大时,其表面被疏水性物质污染,其较小时,则判定为被净化。利用低倍率显微镜,制作小液滴的放大像,在液滴的接点处,旋转视野中的直线,读出此时的角度。通过显微镜物镜投影液滴,通过摄影进行放大,与放大影像法相同,通过求出h、r来求出接触角θ。玻璃表面的清洗条件与润湿性的关系如图2所示。当疏水性有机物质作为污垢附着在固体表面时,水的接触角很好地反映了其附着状况,因此作为清洁度的判定方法是非常有用的,被广泛使用。将液滴(水、酒精等)放置在试料上,通过润湿测量液滴的扩散方式(是否均匀扩散,同时保持圆形的清洁边缘)和液滴直径大小的方法。作为聚乙烯和聚丙烯薄膜的润湿量表的JIS试验法中规定的润湿指数测定方法。

      表5显示的是标准液的组成和表面张力的值。 通过该润湿指数标准液,可以判断玻璃表面的清洁度。 也就是说,将表2的任意标准液充分浸泡在拭子中后,将其以线状向一定方向快速移动涂抹在固体表面。 如果液膜没有破裂,保持2秒以上的涂敷状态,则判断该表面被该标准液浸湿。 在这种情况下,进一步进入下面的表面张力高的混合液。相反,当液膜在2秒以内破裂或整体发生收缩时,则进入下一个表面张力较低的混合液。以这种方式,从能够润湿固体表面的混合液中获得具有最高表面张力的混合液。润湿指数越大,表明其表面越清洁。另外,该方法需要根据测量时的温湿度进行修正。另外,为了不让标准液被污染,还需要注意每次更换棉签等。

 

其他评估方法

     (1)根据摩擦系数的评价。(2)根据粘着性的评价胶带的剥离试验;粘着试验。(3)污渍的提取,根据浓缩测量法的评价:残留离子浓度测量;离子色谱(4)放射性分析评价:放射性分析:无线电示踪法(5)通过光学方法的评价:红外吸收谱;可见·紫外线吸收光谱;测音吸收光谱;偏振分析法(椭偏法);激光传感。(6)通过电的方法的评价;(7)通过分子分光学的方法的评价;X射线光电子谱、荧光X射线分析法、俄歇电子谱、电子激发X射线微分析法、二次离子质谱、离子散射谱和等离子体色谱


Copyright ©2005 - 2013 华林科纳(江苏)半导体设备有限公司
犀牛云提供企业云服务
华林科纳(江苏)半导体设备有限公司
地址:中国江苏南通如皋高新区桃金东路90号
电话:0513-87733829
Email:xzl1019@aliyun.com
www.hlkncse.com

传真:0513-87733829
邮编:226500


X
1

QQ设置

3

SKYPE 设置

4

阿里旺旺设置

2

MSN设置

5

电话号码管理

  • 400-8798-096
6

二维码管理

8

邮箱管理

展开