扫码添加微信，获取更多湿法工艺资料

EUV光刻技术为半导体制造商提供一个前所未有的速度开发最强大芯片的机会。

现在半导体行业已经经历了大规模的改造，这可以归因于技术的演进和热情，以满足不断增加的市场预期。传统上，芯片制造商依赖于在每个芯片的表面添加更多的晶体管。在当今时代，实现这种发展变得越来越具有挑战性。制造商正在关注称为极紫外(EUV) 光刻的先进制造技术。

EUV光刻可用于制造比以前更小规模的芯片。该技术可以导致微处理器的发展，其速度比目前最强大的芯片快十倍。EUV光刻的本质也可以归因于当前芯片印刷技术的物理限制。EUV光刻技术可以使制造商打印宽度为01微米的电路，相当于人类头发宽度的1/1000。

EUV光刻利用波长非常短的光来更快、更准确地生成精细图案。该技术可以生产更小尺寸的晶体管，使处理器和其他电子设备更强大、更便宜、更节能。EUV光刻的两个关键市场包括用于智能手机和服务器的处理器，其中尺寸、功率和效率是必不可少的因素。

尽管 EUV光刻技术前景广阔，但这项技术的普及仍有一些障碍。其中之一是需要大功率光源，这是照亮光刻胶所必需的。然而，世界领先的公司正在投资这项技术。许多公司正在投资研发，以实现 EUV技术的更大进步。此类投资肯定会在未来提高半导体和电子产品的运营效率。

注意:此处包含的信息、建议和意见仅供参考，仅供您考虑，查询和验证，不以任何方式 保证任何材料在特定下的的适用性。华林科纳CSE对以任何形式、任何情况，任可应用、测试或交流使用提供的数据不承担任何法法律表任，此处包含的所有内容不得解释为在任何专利下运营或侵如任何专利的 许可或授权。