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始于90年代末

湿法制程整体解决方案提供商

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发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
发布时间: 2016 - 03 - 14
设备概况:(仅做参考)主要功能:本设备主要手动搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:KOH  Etch刻蚀清洗机           设备型号:CSE-SC-NZD254整机尺寸(参考):自动设备约2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/篮)设备形式:室内放置型;操作形式:手动各槽位主要技术工艺:设备组成:该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成设备走向:方案图按 “左进右出”方式,另可按要求设计“右进左出”方式;设备描述:此装置是一个全自动的处理设备。8.0英寸大型触摸屏(PROFACE/OMRON)显示 / 检测 / 操作每个槽前上方对应操作按钮,与触摸屏互相配合主体材料:德国进口10mmPP板,优质不锈钢骨架,外包3mmPP板防腐;台面板为德国10mm PP板;DIW管路及构件采用日本进口clean-PVC管材,需满足18M去离子水水质要求,酸碱管路材质为进口PFA/PVDF;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成;排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明三菱、欧姆龙 PLC控制。安全考虑:设有EMO(急停装置), 强电弱点隔离所有电磁阀均高于工作槽体工作液面电控箱正压装置(CDA Purge)设备三层防漏  楼盘倾斜   漏液报警  设备整体置于防漏托盘内排放管路加过滤装置所有槽体折弯成型,可有效避免死角颗粒;更多化学品相关湿法腐蚀相关设备(KOH腐蚀刻蚀机、RCA清洗机、去胶机、外延片清洗机、酸碱腐蚀机、显影机等)以及干燥设备(马兰戈尼干燥机Marangoni、单腔...
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占有“天时、地利、人和”的中国半导体产业,正在承接全球芯片产业向以中国为中心的亚洲地区转移重任,而由SEMI和中国电子商会(CECC)共同举办的SEMICON China这个全球规模最大、规格最高的半导体产业年度盛会,正是中国半导体人为实现“半导体中国梦”的首选国际合作、交流平台。据不完全统计,即将于2017年3月14-16日在上海新国际博览中心举行的SEMICON China 2017展览面积达60000平方米,将有900家展商在3000个展位上与逾6万名专业观众互动,第29届SEMICON China必将再创辉煌——连续第6年位居全球半导体展之冠。系列主题展区 把握泛半导体产业脉搏SEMICON China是SEMI为中国乃至全球半导体产业链上下游交流合作而打造的首选平台。结合中国半导体产业特点和全球半导体产业发展趋势,SEMICON China 2017包括了四大主题展区:IC制造专区、LED及蓝宝石专区、集成电路材料产业联盟、MEMS专区。而FPD China 2017 作为中国平板显示的标志性活动,今年已经是14届,触摸屏专区和OLED专区覆盖制造、设备、触摸屏材料及零组件、应用产品、软件支持、方案整合等全产业链。SEMICON China 2017精彩论坛与SEMICON China同期举办的高端论坛和技术研讨会是年度嘉年华的重要组成部分。中国半导体...
发布时间: 2017 - 03 - 11
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刻蚀设备在太阳能晶硅电池刻蚀工艺中的应用——华林科纳CSE在晶体硅太阳能电池的制备过程中,边缘刻蚀作为生产工艺的重要一环,其质量的好坏直接影响着太阳能电池片质量的好坏。当前,电池片的刻蚀主要采用的工艺有:等离子体刻蚀、化学腐蚀刻蚀和利用激光划线刻蚀。1 工艺及设备原理等离子体和激光边缘刻蚀在整个晶体硅太阳能电池片的生产工艺流程中的位置如图 1 所示,等离子体刻蚀一般处于扩散工艺之后,而激光边缘刻蚀处于烧结工艺后面。传统的等离子体刻蚀设备主要是采用 ICP技术,配备 RF 电源组成的反应系统及干式真空泵排气系统等[2],其设备原理如图 2 所示,工作时先将硅片“叠硬币”式装入刻蚀夹具,然后放入反应室中,硅片在全氟化物(PFC)活性等离子混合气体中旋转,氟离子与电池片侧面的硅原子反应,以去除暴露在边缘的材料(pn 结),达到正背面绝缘目的,同时产生氟化硅气体,然后通过废气系统排出。激光精密微细加工技术随着自动化程度的提高和激光器类型的发展应用越来越成熟,激光技术已越来越广泛地使用到太阳能电池的埋栅刻槽、打孔、划片等工艺中。在太阳能硅片电池划片工艺的应用中使用激光器的选型此前已做了很多试验工作,Schoonderbeek [3] 对单晶硅激光划线进行了综合分析,对红外(1 060~1 070 nm)、绿色(532 nm)和紫外(355 nm)激光照射(纳秒脉冲宽度)前后的表面载流子寿命进...
发布时间: 2016 - 12 - 01
浏览次数:493
2017.02.09半导体行业最新新闻报道紫光砸重金增持中芯股份 并购计划却被阻中国近年大举进军半导体,拥有国内最先进制程的晶圆代工厂商中芯国际,想当然成为众所关注的焦点,但也让其成为众所觊觎的对象,十多年前挺过一连串股权争夺风波,传出日前再遭紫光集团锁定,差点纳入麾下。“恩智浦标准产品业务”实施交割 国内最大半导体并购案完成在经历了一系列挫折之后,中国资本对海外半导体资产的并购终于收获一项重大成功。2月7日,中国投资机构北京建广资产管理有限公司(“建广资产”)与恩智浦半导体公司共同宣布,恩智浦半导体旗下的标准产品业务部门(Standard Products BU,“SP业务”)正式完成交割,交易金额为27.5亿美元(约合181亿元)。传大陆挖角联电联咏等200人,年薪是台湾3倍据台湾媒体报道,农历年后,台湾半导体业再出现明显离职潮,业界传出晶圆厂以联电为首,遭大陆华力微电子大举挖角28nm研发团队,加上热门的制程主管或工程师,离职数逾200人,签约3年,年薪是台湾3倍;IC设计联发科、联咏等难以幸免,也传出年后递出离职信者增多。挤下鸿海 台积电专利申请称王经济部智慧财產局2月7日公布去年专利申请百大排名,台积电申请873件,较前一年大幅成长74%,首度取代14年冠军鸿海,名列本国法人第1,且与外国法人榜首英特尔的905件并驾齐驱,显示我国仍是全球半导体的重要布局地区。三星未来两年...
发布时间: 2017 - 02 - 09
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华林科纳砷化镓生产工艺-砷化镓清洗设备砷化镓是一种重要的半导体材料。属Ⅲ- Ⅴ族化合物半导体。属闪锌矿型晶格结构, 晶格常数5.65×10-10m,熔点1237℃,禁带 宽度1.4电子伏。 砷化镓于1964年进入实用阶段。砷化镓 可以制成电阻率比硅、锗高3个数量级以上 的半绝缘高阻材料,用来制作集成电路衬底、 红外探测器、γ光子探测器等。 由于其电子迁移率比硅大5~6倍,故在 制作微波器件和高速数字电路方面得到重要 应用。用砷化镓制成的半导体器件具有高频、 高温、低温性能好、噪声小、抗辐射能力强 等优点。 砷化镓备料——对坩埚及备件的处理:1将石英件和PBN坩埚放入煅烧炉中煅烧 目的是除去坩埚表面的杂质;2将石英件和PBN坩埚送入腐蚀间用王水进行酸洗 目的是除去附着在坩埚上的金属离子;3将石英件和PBN坩埚用纯水清洗 目的是洗去酸液;4将石英件和PBN坩埚用超声波清洗 目的是除去剩余的小颗粒杂质 将石英件和PBN坩埚烘干。目的是除去水分;5将石英件和PBN坩埚送入装料间备用。砷化镓备料——对籽晶、多晶的处理:1用砂纸对籽晶和多晶进行打磨2将籽晶和多晶送入腐蚀间用王水进行酸洗 目的是除去附着在籽晶和多晶的金属离子3将籽晶和多晶送入清洗间用纯水进行清洗目 的是洗去酸液4用沸水清洗,将籽晶和多晶送入烘干箱内烘干5将籽晶和多晶送入装料间备用将籽晶和多晶送入装料间备用:A...
发布时间: 2016 - 11 - 29
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半导体行业最新新闻资讯2017年力拚转型 台系IC设计抢增第二专长在引进大陆资金无望后,加上联发科集团几乎已占台湾IC设计产业产值逾50%,台系IC设计公司2017年力拚转型的计划必须再加快脚步,尤其是面对大陆同业的拔桩、杀价竞争,若不试图技术升级、寻求新的产品市场蓝海以降低产品太过单一的风险,那公司营运逐步衰退将是必然的结局。面对物联网(IoT)世代商机逐步发酵,加上不少新的利基型芯片需求也因终端4C产品市场互相跨界而兴起,在2016、2017年力图转型的台系IC设计公司正逐步累积化危机为转机,静待日后收割成果。台系IC设计业者指出,单靠1个产品及市场或许可以成就公司短期业绩的爆发,但就长期而言,仅靠单脚站立的公司营运结构势必较难挡大环境的景气变化及产品新旧交替的兴衰考验,只是,若要有更多元化的产品及市场策略,背后需有更多的研发团队资源来支持。在遭遇资本市场评价持续低落以及公司本身营运每况愈下的情况下,台系IC设计公司必须改正过去短视成长的毛病,转型再出发已成当务之急,台系IC设计公司也正努力借镜台湾工业电脑产业的成功转型之路。(出自:Digitimes)三星抢占汽车芯片大蛋糕近日,韩国媒体报道三星将从2018年开始,向奥迪供应Exynos处理器,共同打造无人驾驶汽车。其实在去年早些时候就已经有新闻报道,三星专门成立了一个工作小组,用来研发无人驾驶汽车芯片及传感器。虽然三星进军无...
发布时间: 2017 - 01 - 11
浏览次数:274
湿法化学腐蚀是最早用于微机械结构制造的加工方法。所谓湿法腐蚀,就是将晶片置于液态的化学腐蚀液中进行腐蚀,在腐蚀过程中,腐蚀液将把它所接触的材料通过化学反应逐步浸蚀溶掉。用于化学腐蚀的试剂很多,有酸性腐蚀剂,碱性腐蚀剂以及有机腐蚀剂等。以后为华林科纳半导体设备技术的工程师浅谈在半导体湿法腐蚀清洗过程中遇到的清洗注意事项:1、硫酸双氧水去胶         说明:去除光刻胶  配比:H2SO4:H2O2=3:1        温度:140℃          流程:1槽5分钟→溢流5分钟→2槽5分钟→冲水10次→甩干 2、DHF去二氧化硅         说明:HF酸漂去二氧化硅 配比:HF:H2O=1:10         温度:室温          流程:HF酸漂洗(依漂去二氧化硅厚度定时)→溢流5分钟→冲水10次→甩干 3、氮化硅...
发布时间: 2016 - 11 - 23
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半导体行业最新新闻资讯争取与美光合作 紫光网罗到前华亚科总经理美商存储器大厂美光科技上月合并华亚科技后,在新年度展开高层人事调整,原华亚科总经理牟瑞德(Rod)预定农历春节后转调日本,另调派一位新加坡籍华人来台接任。另外,前华亚科总经理梅国勋(Scott Meikle)自美光退休后,正式加入紫光集团,担任高级顾问,为近期加入紫光集团美光层级最高的人员。(出自:经济日报)英特尔发表10nm芯片英特尔本周推出的几款最新芯片(属于高端KabyLake系列的一部分),仍然卡在14纳米,性能仅勉强超过此前的Skylake系列处理器。(出自:凤凰科技)瑞芯微芯片打进三星Chrome Plus NB供应链根据大陆媒体报导,RK3399为瑞芯微目前最强、可应用于全平台的芯片。该芯片采用big.LITTLE大小核架构,具有2个Cortex-A72大核+4个Cortex-A53小核。GPU则采用整体效能较上代产品提升45%的ARM新一代高端影像处理器Mali-T860。报导认为,三星Chromebook选择RK3399的原因或许是看上其强大效能。而大陆IC设计公司首度打入三星的高端产品供应链,对大陆芯片的全球化有象征性意义。(出自:Digitimes)中兴通讯回应裁员风波:年流动率约 5% 属正常情况日前,《路透社》引用中国中兴通讯(ZTE)多名高层主管的消息表示,中兴通讯将裁员约 3,000 人,约...
发布时间: 2017 - 01 - 10
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太阳能光伏行业最新新闻热点2017年01月09日通威股份联手隆基股份欲投8亿建单晶硅棒项目近日,,通威股份发布公告,鉴于单晶光伏产业的发展趋势,充分利用各方优势及市场资源,其下属永祥股份与隆基股份及常州天合光能有限公司(以下称天合光能)已签订了《合资协议》,拟以三方出资成立合资公司的方式共同投建“丽江年产5GW单晶硅棒”项目。公告披露,上述合资公司注册资本为8亿元,其经营范围包括半导体材料、石英材料、太阳能电池、半导体设备等。其中,隆基股份出资4.8亿元,持股60%;天合光能出资2亿元,持股25%;永祥股份出资1.2亿元,持股15%。据悉,永祥股份是全球领先的多晶硅材料生产商,隆基股份是全球最大的单晶硅产品制造商,天合光能是全球领先的组件供应商及一流的系统集成商。通威股份表示,此次三方组建合资公司,可充分发挥各合作方在单晶产业链各环节的优势,有利于提升项目公司盈利能力,降低项目风险,符合公司业务发展需要。此外,此次投资完成后不会新增关联交易及同业竞争。证券时报路e公司记者注意到,继2016年1月完成对永祥股份和通威新能源的收购之后,已经形成永祥股份1.5万吨多晶硅产能,此后通威股份又于同年9月再次完成对通威太阳能的收购。有业内人士表示,在收购通威太阳能后,将有助于通威股份完善太阳能光伏产业链。如今,通威股份已实现了多晶硅、晶硅电池片及光伏电站开发运维等光伏新能源上、中、下游产业的购...
发布时间: 2017 - 01 - 09
浏览次数:191
半导体蓝宝石晶片清洗介绍--华林科纳CSE清洗环境  % `- K4 M2 z" c$ |7 [/ k) g整个蓝宝石的加工环境对最终蓝宝石晶片的表面质量有很大的影响,对开盒即用的蓝宝石晶片,通常抛光、清洗需要在100级以下的净化室中进行,最后的净化和封装需要在10级的净化台中进行。同时操作人员需要着防尘服,人员进入净化室要经过风淋处理。清洗工艺  ( b$ Y, O$ M) w, r针对开盒即用蓝宝石晶片的表面质量要求, 根据上述的净化原理, 对切割、磨削、研磨、抛光等不同工序的晶片清洗工艺进行了优化, 由于抛光后的清洗是最复杂的清洗, 也是要求最高的最后一道净化工序, 清洗后就封装, 交用户进行GaN 外延生长。所以这里详细分析抛光后蓝宝石晶片的清洗方法, 抛光后的蓝宝石晶片的具体清洗工艺和清洗剂的配方如下: a 抛光后的蓝宝石晶片在50℃-60℃的三氯乙烷中用兆声波清洗15分钟; b 在20℃-25℃的丙酮中清洗2分钟; c 用去离子水流清洗2分钟;  ) r$ l4 l' A9 ?. c) L; `$ Dd 在80℃-90℃的2号液(该清洗剂各组分的体积比是1:4:20)中,兆声波清洗10分钟;  e 用去离子水流清洗2分钟;  f 擦蓝宝石晶片(可用擦片机);  g 在90℃-95℃的1号液(该...
发布时间: 2016 - 11 - 13
浏览次数:271
市场垄断/技术封锁 我国传感器产业发展仍需政策引导长期以来,我国传感器产业化未能受到高度重视,与市场需求和作用不相适应,企业均处于小规模生产阶段,存在工艺老化、结构不合理等问题,缺乏产业化生产的基础条件。核心技术与产品停留在实验室或小批量生产的初级阶段,难以形成和产生规模经济效益。在国内已有的1700多家企业、大专院校、科研机构中,都有不同程度的研发、小批量生产制造传感器产品。由于非专业型、非主流产品的企业比例较高,产值相对较低,重视程度不够,因此,产值过亿的企业仅占总数的5%,产品种类齐全的专业厂家不足3%。与国外相比,在产品品质、工艺水平、生产装备、企业规模、市场占有率和综合竞争能力等方面存在较大差距。新品研制仍落后近10年,而产业化水平落后10-15年。目前我国敏感元件与传感器大约有60%依赖进口,核心芯片约80%以上依赖进口,物联网中使用的MEMS 传感器几乎全部依赖进口。致使我国持续增长的庞大市场被国外长期控制与垄断,不仅造成经济利益的损失,而且对于国家政治、经济、军事等信息安全造成严重影响和威胁。同时,严重制约和影响我国物联网、大数据、云计算、“互联网+”,乃至智慧城市,特别是军工与武器装备水平的整体发展与提高,现实问题与矛盾尤为突出。此外,我国在国家战略规划和产业政策上没有提到相应高度予以足够的重视和扶持培育,资源配置偏离行业发展,政策关注度不够也是传感器产业化与国际...
发布时间: 2017 - 01 - 05
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