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湿法制程整体解决方案提供商

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发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
发布时间: 2016 - 03 - 14
设备概况:(仅做参考)主要功能:本设备主要手动搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:KOH  Etch刻蚀清洗机           设备型号:CSE-SC-NZD254整机尺寸(参考):自动设备约2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/篮)设备形式:室内放置型;操作形式:手动各槽位主要技术工艺:设备组成:该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成设备走向:方案图按 “左进右出”方式,另可按要求设计“右进左出”方式;设备描述:此装置是一个全自动的处理设备。8.0英寸大型触摸屏(PROFACE/OMRON)显示 / 检测 / 操作每个槽前上方对应操作按钮,与触摸屏互相配合主体材料:德国进口10mmPP板,优质不锈钢骨架,外包3mmPP板防腐;台面板为德国10mm PP板;DIW管路及构件采用日本进口clean-PVC管材,需满足18M去离子水水质要求,酸碱管路材质为进口PFA/PVDF;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成;排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明三菱、欧姆龙 PLC控制。安全考虑:设有EMO(急停装置), 强电弱点隔离所有电磁阀均高于工作槽体工作液面电控箱正压装置(CDA Purge)设备三层防漏  楼盘倾斜   漏液报警  设备整体置于防漏托盘内排放管路加过滤装置所有槽体折弯成型,可有效避免死角颗粒;更多化学品相关湿法腐蚀相关设备(KOH腐蚀刻蚀机、RCA清洗机、去胶机、外延片清洗机、酸碱腐蚀机、显影机等)以及干燥设备(马兰戈尼干燥机Marangoni、单腔...
新闻中心 新闻资讯
3月21日,华林科纳半导体与台湾弘塑科技签订战略合作协议。华林科纳、弘塑科技、三菱电机、香港应用科技研究院、文治资本、上海交通大学微电子学院均派出代表出席并见证了签约仪式。根据协议,双方将本着“强强联合、优势互补、合作共赢”的原则,积极推进在半导体湿制程领域的设备研发、制造、售后服务支持等方面合作,促进共同发展。↑ 签约仪式在签约仪式中,双方进行了友好交流。华林科纳半导体作为国内湿制程设备领域的优质供应商,业务范围涵盖了湿法清洗、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品,广泛应用于大规模集成电路、电力电子器件、分立器件、光电子器件、MEMS等领域。弘塑科技股份有限公司作为台湾半导体设备制造的领先品牌,此次与华林科纳半导体签约是双方友好合作的起点,要借此契机从长远性和战略性的高度,深化合作领域,加大8寸及12寸单片旋转清洗设备、电镀设备等高端设备的新产品研发、生产与销售。通过紧密和高效的合作,释放1+12的增值效益,携手探寻半导体设备领域的新发展。↑ 弘塑代表发言↑ 签约仪式现场
发布时间: 2019 - 04 - 18
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新南威尔士大学(The University of New South Wales),澳大利亚一所世界顶尖级研究学府,简称UNSW,创立于1949年,其主校区位于新州首府悉尼。新南威尔士大学素有“南半球的麻省理工”之称,其工程学院是澳大利亚规模最大的工程学院。据澳大利亚公布的最及影响力的百强工程师名单中,近四分之一毕业于新南威尔士大学。
发布时间: 2019 - 04 - 09
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扫码添加微信,获取更多半导体相关资料摘要      在印刷和蚀刻生产厚金属膜中的精密图案时,需要对化学蚀刻剂有基本的了解,以实现工艺优化和工艺控制。为了蚀刻纯铝电路,研究了正磷酸、多磷酸和氯化铁的配方。 研究的目的是确定蚀刻速率和图案定义对正磷酸浓度从50%到 95%(v/v)s多磷酸浓度从50%到5%的变化的敏感性(v/v),氯化铁(III)浓度为10-40g/L,溶解铝浓度为0.0-5.0g/L。 得出的结论是,正磷酸、多磷酸、氯化铁蚀刻剂系统允许蚀刻 剂制备和电路处理的合理变化,而不会显著影响蚀刻的纯铝电 路的线宽减小和边缘质量。      在所研究的范围内,在正磷酸浓度为75%至95%和氯化铁浓度 为10g/LB寸,可获得最佳的图案清晰度和线宽减小。为了保持这种最佳状态,需要温度控制和对蚀刻产物积累的密切监控,建立了原子吸收分光光度法测定溶解铝浓度的方法。      未来的工作将包括评估溴化铁、硫酸化铁和过渡金属氧化物盐,如镍、钴、锰、钌和锇,作为氧化铁的可能代替品。其他研究将集中在蚀刻反应的分析特征上。 介绍      在印刷电路工业中,化学蚀刻长期以来一直是在金属膜中产生精确图案的公认方法。蚀刻结合目前的光刻技术,提供了亚微米线分辨率。尽管随...
发布时间: 2021 - 10 - 22
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清明节将至,公司举办了节前最后一期专业技术培训会系列学习活动,我们邀请了华林科纳配件合作伙伴刘礼达、尹卫卫先生,为公司同事们全面介绍了设备配件与耗材相关要点,包括PTFE、PFA等材料特性以及阀门配件的选型。参加培训的同事们积极讨论,表示为了能够全面的熟悉设备的每一个环节,以后还应该系统的学习专业知识,做好笔记,把握细节品质。今年是华林科纳树立产品标杆形象的一年,节后还将会有更多的业内专家走进华林科纳,展开相关领域的培训与分享。
发布时间: 2019 - 04 - 09
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SEMICON 展会刚刚结束,华林科纳的同仁们并没有就此可以放松下来。我们邀请了超声设备专家江捍忠先生,为第二期部门同事们提供了全新的超声波技术课程。课程涵盖了4个版块:超声波清洗定义及分类、超声波空化作用、发生器技术、兆声波清洗的原理。版块一:超声波清洗定义及分类在该版块中,超声设备专家江捍忠先生首先分享了工艺流程选择,指出在不同的工艺流程中采用多道超声波清洗,对高品位的磁性材料较为合适,能很好地保证后续的电镀质量。当然,加工企业应根据具体磁性材料和自己的操作条件来选择不同的清洗工艺流程。他提到声波是疏密波,在稀疏区域实际压强小于原来的静压强,在稠密区域实际压强大于原来的静压强,声压的周期性变化可以控制电流的周期性变化。版块二:超声波空化作用清洗效果是随着超声波功率密度增加而提高的。但过高的功率密度会由于空化作用过份强烈而引起被清洗件表面的浸蚀(即所谓空化腐蚀),从而使被清洗件表面受到损伤。这种现象尤其对工件上的各种镀层以及铝合金件更为突出。版块三:发生器技术超声波清洗设备主要由超声波发生器及清洗槽两大部分组成。在被清洗件批量较大的情况下,还附有清洗液循环装置;有时为了实现清洗过程自动化,还附有被清洗件传送装置。一般情况下,超声波发生器和清洗槽是两个结构上互相独立的装置,它们之间仅用一根电缆线连接起来,以传送电功率。但也有的超声波清洗设备是将发生器与清洗槽组合为一体的。版块四:兆...
发布时间: 2019 - 04 - 01
浏览次数:126
3月22日,为期3天的SEMICON China 2019上海电子展正式落下帷幕,展会最后一天,展台内依旧人头攒动,热闹非凡。众多客商对华林科纳的湿制程设备、阀门器件表示出浓厚的兴趣,纷纷驻足观看,交流研究。作为湿制程设备专业制造商,在展会期间,华林科纳吸引了一波又一波的商客前来参观,现场高涨的人气无不在彰显着华林科纳的品牌实力。3月21日,华林科纳在SEMICON China 2019 展会结束之后,在上海世纪皇冠假日酒店举办半导体制造企业沙龙,来自政府、行业协会、业内专家、企业代表、媒体代表近百位嘉宾参加本次会议。本次企业沙龙致力于推动半导体湿制程工艺领域的信息交流与合作,整合创新资源,探索行业管理和科技服务的新模式,进一步促进产业发展与技术进步。现场气氛非常融洽。在会议现场,华林科纳与弘塑科技达成战略合作,双方签署了战略合作框架协议,一致同意就科研项目、科研平台、人才培养等方面实现技术和资源共享,实现互利共赢。非常感谢每一位光临华林科纳展台的业界朋友!感恩有您,携手共进!华林科纳参展SEMICON CHINA 2019完美收官,期待明年与您再次相遇!
发布时间: 2019 - 04 - 01
浏览次数:128
3月21日,华林科纳在SEMICON China 2019 展会结束之后,在上海世纪皇冠假日酒店举办半导体制造企业沙龙,来自政府、行业协会、业内专家、企业代表、媒体代表近百位嘉宾参加本次会议。本次企业沙龙致力于推动半导体湿制程工艺领域的信息交流与合作,整合创新资源,探索行业管理和科技服务的新模式,进一步促进产业发展与技术进步。现场气氛非常融洽。
发布时间: 2019 - 04 - 01
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3月20日,SEMICON China 2019中国半导体展开展第一天,华林科纳展区一经亮相,便圈粉无数。现场快报,带您一起去看看华林科纳的新技术,新产品、新亮点!!感谢各位亲爱的朋友们,第一天就快要把我们的展位挤爆了。大家对我们的湿制程设备、阀门等都非常感兴趣,得到了新老客户的赞誉。赶快来我们的展位  N5-5584 ,从上海新国际展览中心3号门入口可直达5号馆,超大超全的产品展示,恭候您的大驾。今年我们的准备的礼品都非常不错哦,只要拉到最下扫码关注我们,来展会现场出示公众号即可得到,数量有限,要抓紧啦。
发布时间: 2019 - 04 - 01
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2019年3月20-22日SEMICON China 将在上海新国际博览中心举办。25年来,SEMICON China伴随着中国半导体产业的蓬勃发展而成为中国权威的半导体行业盛会之一。展会开始进入倒计时了!我们期待您的大驾光临,在此奉上贴心的《参观指南》。
发布时间: 2019 - 03 - 16
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3月5日下午,在华林科纳南通生产基地会议室组织了2019年的第一场技术培训,公司销售部、技术部、生产部、资材部、采购部等部门悉数参加。华林科纳超声设备专家朱洪岗先生讲课主讲人华林科纳超声设备专家朱洪岗先生在本次培训会上做了关于《超声波设备原理》的主题培训,通过超声波清洗原理、清洗效果与特点、设备的基本构造、设备使用保养四个版块展开培训。认真的听课参加培训的同事们积极讨论,针对超声波核心技术在公司项目中的应用提出了自己的见解,现场气氛热烈。仔细的记笔记通过此次培训,促使各部门同事更加深入了解超声波清洗的应用和方案选择,有利于部门相互协作,帮助客户更加精准地选择和使用华林科纳的产品。培训受到了公司各部门的欢迎和好评,后续的培训将定期举行。
发布时间: 2019 - 03 - 07
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